В начале года Китай завершил создание прототипа установки для EUV-литографии, предназначенной для производства чипов для искусственного интеллекта и военных технологий. Это событие стало важным этапом в технологической гонке, так как установка EUV-литографии была последним значимым препятствием для Китая в области высокотехнологичного производства полупроводников. Согласно планам китайского правительства, массовое производство микросхем с использованием этих установок начнётся в 2028–2030 годах. Этот шаг может существенно изменить ситуацию на мировом рынке полупроводников, особенно учитывая усилия США и ЕС, направленные на сдерживание Китая в разработке таких технологий. Прототип, собранный инженерами, бывшими сотрудниками голландской компании ASML, уже прошёл тестирование несмотря на то, что пока не производит полноценные микросхемы. Весь процесс разработки строго охраняется, а члены команды используют вымышленные имена для защиты своей личности. Основная часть команды состоит из бывших инженеров ASML китайского происхождения, которые обладают необходимыми знаниями и опытом. @banksta