Intel уже установила у себя первую самую современную машину ASML для EUV-литографии с высокой числовой апертурой — Компания Intel в лице своего подразделения Intel Foundry объявила об установке на своей фабрике самой современной в мире машины для EUV-литографии — сканера TWINSCAN EXE:5200B High-NA EUV от ASML.   Эта машина нужна Intel для техпроцесса 14A, на который она теперь делает большие ставки. В этом случае используется EUV-литография с высокой числовой апертурой (High-NA EUV). И это первый в отрасли переход от литографии с низкой числовой апертурой (Low-NA) к высокой.  Фото Intel В сотрудничестве с ASML процессорный гигант уже завершил приемочные испытания. TWINSCAN EXE:5200B — это вторая версия сканера High-NA EUV от ASML, после TWINSCAN EXE:5000, который Intel первоначально использовала для своих пробных запусков 14A-технологии.   Новая машина обеспечивает производительность 175 пластин в час в стандартных условиях, но Intel собирается повысить показатель до более чем 200 пластин в час.  Установка также повышает точность совмещения, обеспечивая выравнивание отдельных литографических слоев с точностью до 0,7 нанометра.   Серийное производство по новому техпроцессу Intel планирует начать в 2027 году. Компания акцентирует внимание, что данный техпроцесс выделяется тем, что партнёры компании участвуют в его разработке с самого начала, что позволит в последствии быстрее и проще создавать чипы, максимально подходящие под запросы заказчиков.