В России разработали системы для запуска 65-нм техпроцесса — технология появилась у Intel ещё 20 лет назад — В России впервые созданы отечественные кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), необходимые для выпуска интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм, сообщают «Ведомости». Разработка выполнена научно-исследовательскими институтами НИИМЭ и НИИТМ, входящими в группу компаний «Элемент». Оборудование рассчитано на работу с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 мм, что соответствует требованиям современных производств. Источник изображения: AI